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华虹NEC 0.35微米BCD工艺开发项目取得显著成果
发布时间: 2007-06-06 08:00  作者: 本站编辑
  

上海华虹NEC电子有限公司与其技术合作伙伴共同开发的新技术项目——先进的0.35微米BCD工艺进展顺利,已取得显著成果。华虹NEC预计将在第三季度完成0.35微米40伏BCD工艺的开发,并向客户开放使用。

目前,该工艺条件已经确定,EDR、TDR、Device Model、PDK、Standard/Digital Cell以及Library已基本完成。华虹NEC将运用此工艺为客户提供模拟/电源管理、显示驱动、汽车电子等芯片产品的代工服务,尤其将致力于拓展模拟/电源管理战略市场。华虹NEC总裁刘文韬博士表示:“BCD项目将进一步扩展、丰富华虹NEC的工艺线,并且确立公司在模拟/电源管理领域的领先地位。”

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